Analysis of thermal parameters and factors acting on thermal conduction of low-k films (Surface and Interface Analysis (October 2008) (1362-1366) DOI: 10.1002/sia.2908)

Shigeo Sato, Takao Okamura, Jiping Ye

研究成果: Article査読

本文言語English
ページ(範囲)264
ページ数1
ジャーナルSurface and Interface Analysis
41
3
DOI
出版ステータスPublished - 2009 3

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  • 化学 (全般)
  • 凝縮系物理学
  • 表面および界面
  • 材料化学
  • 表面、皮膜および薄膜

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