Analysis of GOI-MOSFET with high-k gate dielectric and metal gate fabricated by Ge condensation technique

Mungi Park, Jicheol Bea, Takafumi Fukushima, Mitsumasa Koyanagi

研究成果: Article査読

1 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Analysis of GOI-MOSFET with high-k gate dielectric and metal gate fabricated by Ge condensation technique」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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