An electron-beam-induced current investigation of electrical defects in high-k gate stacks

J. Chen, T. Sekiguchi, N. Fukata, M. Takase, Y. Nemoto, R. Hasunuma, K. Yamabe, M. Sato, K. Yamada, T. Chikyow

研究成果: Conference contribution

1 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「An electron-beam-induced current investigation of electrical defects in high-k gate stacks」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science