355nm generation by Fan-out PP-LBGO device

Junji Hirohashi, Masami Hatori, Mitsuyoshi Sakairi, Shintaro Miyazawa, Shunji Takekawa, Tetsuo Taniuchi, Yasunori Furukawa

研究成果: Paper査読

4 被引用数 (Scopus)

抄録

355 nm generation was confirmed by using a novel ferroelectric QPM device, PPLBGO with Fan-out structure as a third harmonic of 1064 nm light. More than 100 mW was generated without any walk-off.

本文言語English
出版ステータスPublished - 2014
イベント2014 Conference on Lasers and Electro-Optics, CLEO 2014 - San Jose, United States
継続期間: 2014 6月 82014 6月 13

Other

Other2014 Conference on Lasers and Electro-Optics, CLEO 2014
国/地域United States
CitySan Jose
Period14/6/814/6/13

ASJC Scopus subject areas

  • 電子工学および電気工学
  • 原子分子物理学および光学
  • 電子材料、光学材料、および磁性材料

フィンガープリント

「355nm generation by Fan-out PP-LBGO device」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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