年別の研究成果
年別の研究成果
フィンガープリント
Thi Van Anh Nguyenが活動している研究トピックを掘り下げます。このトピックラベルは、この研究者の研究成果に基づきます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
- 11 類似のプロファイル
ネットワーク
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研究成果
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Effect of surface modification treatment on top-pinned MTJ with perpendicular easy axis
Honjo, H., Naganuma, H., Nguyen, T. V. A., Inoue, H., Yasuhira, M., Ikeda, S. & Endoh, T., 2021 2 1, In: AIP Advances. 11, 2, 025211.研究成果: Article › 査読
Open Access -
Influence of Hard Mask Materials on the Magnetic Properties of Perpendicular MTJs with Double CoFeB/MgO Interface
Honjo, H., Niwa, M., Nishioka, K., Nguyen, T. V. A., Naganuma, H., Endo, Y., Yasuhira, M., Ikeda, S. & Endoh, T., 2020 8, In: IEEE Transactions on Magnetics. 56, 8, 9123981.研究成果: Article › 査読
1 被引用数 (Scopus) -
Magnetic properties of Co film in Pt/Co/Cr2O3/Pt structure
Nguyen, T. V. A., Shiratsuchi, Y., Sato, H., Ikeda, S., Endoh, T. & Endo, Y., 2020 1 1, In: AIP Advances. 10, 1, 015152.研究成果: Article › 査読
Open Access -
Scalability of Quad Interface p-MTJ for 1X nm STT-MRAM with 10-ns Low Power Write Operation, 10 Years Retention and Endurance > 10¹¹
Miura, S., Nishioka, K., Naganuma, H., Nguyen, T. V. A., Honjo, H., Ikeda, S., Watanabe, T., Inoue, H., Niwa, M., Tanigawa, T., Noguchi, Y., Yoshizuka, T., Yasuhira, M. & Endoh, T., 2020 12, In: IEEE Transactions on Electron Devices. 67, 12, p. 5368-5373 6 p., 9212560.研究成果: Article › 査読
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Scalability of Quad Interface p-MTJ for 1X nm STT-MRAM with 10 ns Low Power Write Operation, 10 years Retention and Endurance 10-11
Miura, S., Nishioka, K., Naganuma, H., Nguyen, T. V. A., Honjo, H., Ikeda, S., Watanabe, T., Inoue, H., Niwa, M., Tanigawa, T., Noguchi, Y., Yoshiduka, T., Yasuhira, M. & Endoh, T., 2020 6, 2020 IEEE Symposium on VLSI Technology, VLSI Technology 2020 - Proceedings. Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc., 9265104. (Digest of Technical Papers - Symposium on VLSI Technology; vol. 2020-June).研究成果: Conference contribution
1 被引用数 (Scopus)